半導體行業(yè)第一!北方華創(chuàng)去年利潤56億,等于中芯、海光之和
雖然在市值方面,北方華創(chuàng)(002371.SZ)僅排在半導體行業(yè)第四,但公司的2024年的歸母凈利潤卻位列半導體行業(yè)第一,等于市值排名行業(yè)第一和第二的中芯國際與海光信息之和。
2025年4月25日,北方華創(chuàng)發(fā)布了2024年年報和2025年第一季度季報。去年公司營業(yè)收入為298.38億元,同比增長35.14%;歸母凈利潤為56.21億元,同比增長44.17%,無論營收還是利潤,都創(chuàng)下了公司上市來的最高值。
并且,從增長性的角度來看,這是公司連續(xù)第5年營收增長率超過30%(2020年至2024年),連續(xù)第10年超過歸母凈利潤增長率超過30%(2015年至2024年)。
2025年第一季度,在去年高增長的基礎上,北方華創(chuàng)再次展現(xiàn)了強大的爆發(fā)力,實現(xiàn)營收82.06億元,同比增長37.90%,實現(xiàn)歸母凈利潤15.81億元,同比增長38.80%。
市值排名前十的半導體公司
值得一提的是,北方華創(chuàng)的利潤表現(xiàn),放到整個半導體行業(yè)也是數(shù)一數(shù)二的存在。據(jù)芯辰大海統(tǒng)計,在全行業(yè)165家上市公司(中信證券行業(yè)分類)中,北方華創(chuàng)56.21億元的歸母凈利潤可以排到全行業(yè)第一。約等于市值排名行業(yè)第一的中芯國際(去年歸母凈利潤36.99億元)和市值排名第二(去年歸母凈利潤19.31億元)的之和。
以下是北方華創(chuàng)在經營方面取得的具體成績:
刻蝕設備收入超82億元,高出中微公司約8億元
眾所周知,北方華創(chuàng)和中微公司是我國刻蝕領域的雙雄,二者可謂各有千秋。在技術上,中微公司的刻蝕機已經廣泛用于從65納米到5納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用中(北方華創(chuàng)并沒有在年報中披露公司刻蝕機的技術水準)。但從收入上來看,北方華創(chuàng)卻是穩(wěn)壓中微公司一頭的。
北方華創(chuàng)2024年年報顯示,公司在刻蝕設備領域,已形成了ICP、CCP、Bevel刻蝕設備、高選擇性刻蝕設備和干法去膠設備的全系列產品布局。2024年公司刻蝕設備收入超80億元。中微公司財報顯示,2024年公司刻蝕設備收入約72.77億元。
薄膜沉積設備收入首超100億元
北方華創(chuàng)財報顯示,公司在薄膜沉積設備領域,已形成了物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、原子層沉積(ALD)、 外延(EPI)和電鍍(ECP)設備的全系列布局。2024年公司薄膜沉積設備收入超100億元。這是北方華創(chuàng)薄膜設備收入首次超過100億元(2023年為超過60億元)。
據(jù)了解,薄膜沉積設備作為半導體制造的核心裝備,通過物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)、外延生長 (EPI)、電化學沉積(ECP)及原子層沉積(ALD)等技術,在基底表面精準構筑納米級功能膜層,這些膜層在芯片中 扮演重要的角色。根據(jù)權威機構數(shù)據(jù),2023年薄膜沉積設備在集成電路設備資本支出中的占比為22.1%。
正式進軍離子注入設備市場
2025年3月,北方華創(chuàng)正式宣布進軍離子注入設備市場,已發(fā)布的離子注入設備主要有2種,分別是12英寸浸沒式離子注入設備和12英寸離子注入設備。
其中,12英寸浸沒式離子注入設備主要用于硅晶圓器件的高劑量、低能量的離子注入摻雜工藝,面向存儲和邏輯 領域的互補金屬氧化物半導體器件的摻雜(CMOSDeviceDoping)、加氫鈍化 (H-Passivation)、超淺結摻雜(UltraShallowJunctionDoping)、SOI (Silicon-on-Insulator)等工藝應用需求
12英寸離 子注入設備主要用于12英寸邏輯、存儲芯片B、P、As等元素的注入。該設備可精準控制 注入角度,注入劑量,從而獨立控制摻雜濃度和節(jié)深,調控晶體管電性能。
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